隨著半導(dǎo)體、電子行業(yè)的技術(shù)發(fā)展，對(duì)水處理設(shè)備的需求也越來越廣泛，國(guó)內(nèi)外超純水設(shè)備的技術(shù)也獲得了飛速的發(fā)展和廣泛的應(yīng)用，涌現(xiàn)出一大批超純水處理方面領(lǐng)域的公司企業(yè)，。目前國(guó)內(nèi)的超純水制備行業(yè)正處于快速的發(fā)展階段，但是相比國(guó)外的發(fā)展水平仍有很大的差距。隨著國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體生產(chǎn)線的普及，超純水制備設(shè)備的需求越來越大，目前國(guó)內(nèi)的現(xiàn)代超純水水質(zhì)以電阻率、TOC（總有機(jī)碳）、細(xì)菌、微粒、DO（溶解氧）、可溶硅、離子和金屬雜質(zhì)等參數(shù)來表征，它們對(duì)器件影響大。因此，這就需要設(shè)計(jì)一臺(tái)能夠制備滿足指標(biāo)要求的浸沒液超純水處理系統(tǒng)，以保證光刻機(jī)的正常運(yùn)行。超純水處理系統(tǒng)是制備超純水的自動(dòng)控制系統(tǒng)，在光刻機(jī)中它作為浸沒控制系統(tǒng)中的子模塊，主要負(fù)責(zé)對(duì)超純水的制備，對(duì)超純水污染物質(zhì)進(jìn)行處理，并達(dá)到浸沒供給液各項(xiàng)指標(biāo)要求。