設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)

1) 外形尺寸（約）:L1200×W1100×H1850（mm） 外觀噴塑處理

2) 反應(yīng)倉尺寸：不銹鋼 W450mm×H350mm×D470mm

3) 電源：主系統(tǒng)電源: 380×(1±10%)V(AC) 50Hz～60Hz 三相五線

4)等離子體頻率：40KHz

5)射頻電源功率：（0～1000）W 可調(diào)

6)設(shè)備功率：≤4kW

控制方式：采用包括觸摸屏人機界面的 PLC 控制，操作方式包括自動模式和手動模式。在自動模式下將不同工藝參數(shù)按照配方方式管理， 可同時存儲 100 組不同的配方。使用時只需要將相應(yīng)配方號調(diào)出即可。設(shè)備參數(shù)分級管理，設(shè)備操作員、工藝人員、維護人員使用不同口令管理不同參數(shù)，提高設(shè)備安全性。手動模式用于實驗工藝以及設(shè)備維護維修。

7)MFC 質(zhì)量流量控制

8)氣體流量：(0～200)ml/min （標(biāo)況下）

9)工作氣體(氧、氬等)接口壓力：≤0.45MPa

壓縮空氣（啟動氣動角閥）接口壓力：0.5Mpa

凈化冷卻氣體（氮氣）接口壓力：0.45MPa

10)設(shè)備工作節(jié)拍：單次清洗時間≤8min（清洗時間 6min，具體以實際清洗時間為準(zhǔn)）

11)工作真空度：30～150Pa

12)反應(yīng)倉工作溫度：30~60℃

13)極板數(shù)量：水平電極板≥8 層，極板間任意組合