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在生產實踐中, 我們了解到奧氏體不銹鋼在強氧化性介質(如濃) 中也能產生晶間腐蝕, 但腐蝕情況和在氧化性或弱氧化性介質中的情況不同。通常發(fā)生在經過固溶處理的鋼上,經過敏化處理的鋼一般不發(fā)生。當固溶體中含有磷這種雜質達100ppm 時或硅雜質為1000 - 2000ppm 時, 它們便會偏析在晶界上。這些雜質在強氧化性介質作用下便發(fā)生溶解, 導致晶間腐蝕。而鋼經敏化處理時, 由于碳可以和磷生成(MP) 23C6 , 或由于碳的首先偏析限制了磷向晶界擴散, 這兩種情況都會免除或減輕雜質在晶界的偏析, 就消除或減弱了鋼對晶間腐蝕的敏感性。
引起常用奧氏體不銹鋼晶間腐蝕的介質, 主要有兩類。一類是氧化性或弱氧化性介質,一類是強氧化性介質,如濃等。常見的是第一類,下面列出常見引起奧氏體不銹鋼晶間腐蝕的介質環(huán)境。