常州科納達新材料自主研發(fā)生產的氧化鈰拋光液是以納米級氧化鈰粉末為磨料的氧化鈰研磨液，又稱氧化鈰分散液，具有分散性好、粒度細、粒度分布均勻、硬度適中等特點。這使得它能夠在拋光過程中有效去除材料表面的微觀不平整，同時保持較低的磨損率。

氧化鈰拋光液KND-SF30的特點

高切削力與精密拋光：氧化鈰拋光液在保持高切削力的同時，能達到精密的拋光效果。

軟硬度適中：其軟硬度適中，不會劃傷被拋光面。

分散性好：拋光液中的氧化鈰微粒分散性好，粒度細且分布均勻，極大提高了拋光效率和精度。

穩(wěn)定性高：拋光質量穩(wěn)定，粒度可控，顆粒度分布集中。

懸浮性好：不易沉淀，使用方便。

使用壽命長：氧化鈰拋光液具有較長的使用壽命，減少了更換拋光材料的頻率。

氧化鈰拋光液KND-SF30的作用

高效去除表面不平整：氧化鈰拋光液通過其微粒與工件表面的相互作用，能夠迅速去除表面的微觀不平整，如劃痕、凹坑和粗糙度等。這種高效的去除能力使得氧化鈰拋光液在光學玻璃、半導體晶片、陶瓷等高精度材料的拋光過程中得到廣泛應用。

提高表面光潔度：使用氧化鈰拋光液拋光后，工件表面能夠達到極高的光潔度，從而滿足精密儀器和設備的性能要求。光潔度的提高不僅有利于降低摩擦和磨損，還能提高產品的光學性能和熱穩(wěn)定性。

降低加工成本：一方面，氧化鈰拋光液具有較長的使用壽命，減少了更換拋光材料的頻率；另一方面，其高效的拋光能力減少了加工時間，提高了生產效率。

改善加工環(huán)境：氧化鈰拋光液在使用過程中產生的粉塵和廢液較少，有利于改善加工環(huán)境。此外，氧化鈰拋光液還具有環(huán)保性，不會對環(huán)境和人體健康造成污染和危害。

氧化鈰拋光液KND-SF30的應用領域

光學玻璃拋光：在光學玻璃制造過程中，氧化鈰拋光液被廣泛應用于鏡片和棱鏡的拋光。通過調整拋光液的濃度、溫度和壓力等參數，可以實現高精度和高效率的拋光過程，從而獲得具有高光學性能的玻璃產品。

半導體晶片拋光：在半導體制造過程中，氧化鈰拋光液被用于對晶片進行拋光處理。通過去除晶片表面的雜質和缺陷，提高晶片的光潔度和平整度，從而確保半導體器件的性能和可靠性。

陶瓷拋光：陶瓷材料具有硬度高、耐磨性好等優(yōu)點，但在加工過程中容易產生劃痕和凹坑等缺陷。使用氧化鈰拋光液對陶瓷進行拋光處理，可以有效去除這些缺陷，提高陶瓷制品的外觀質量和使用性能。

其他領域：除了上述領域外，氧化鈰拋光液還被廣泛應用于金屬拋光、塑料拋光等領域。