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半導體晶圓納米拋光液

  • 發(fā)布時間:2024-12-05 12:28:03,加入時間:2024年10月18日(距今337天)
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晶圓拋光液KND-LP30是一種水溶性拋光劑,主要由磨料、PH值調節(jié)劑、氧化劑、分散劑和表面活性劑等多種化學成分組成。這些成分在拋光過程中共同作用于晶圓表面,實現(xiàn)研磨、腐蝕溶解等效果,從而達到拋光的目的。

晶圓拋光液KND-LP30的工作原理

晶圓拋光液在CMP工藝中起到關鍵作用。它通過與晶圓表面產(chǎn)生化學反應,形成一層結合力弱的氧化膜,有利于后續(xù)機械去除。在氧化劑的氧化腐蝕與磨料研磨的共同作用下,晶圓表面可達到高質量全局平坦化效果。

晶圓拋光液KND-LP30的優(yōu)點

拋光效果好:能夠去除金屬表面的粗糙部分,提高表面光潔度,使金屬表面呈現(xiàn)自然光澤。

防腐蝕性強:在金屬表面形成一層具有保護作用的金屬氧化物層,大大減少了金屬的腐蝕情況。

增加耐磨性:使金屬表面變得更加光滑,從而提高金屬表面的耐磨性和潤滑能力。

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