大多數(shù)光學(xué)實(shí)驗(yàn)或工業(yè)生產(chǎn)都對系統(tǒng)穩(wěn)定性有較高的要求。各種因素造成的振動會導(dǎo)致儀器測量結(jié)果的不穩(wěn)定性和不準(zhǔn)確性，嚴(yán)重干擾生產(chǎn)和實(shí)驗(yàn)的進(jìn)行，振動來源主要分為來自系統(tǒng)之外的振動和系統(tǒng)內(nèi)部的振動，地面固有振動，工作人員踩踏地板以及開、關(guān)門或墻壁碰撞等通過地面?zhèn)鱽淼恼駝泳鶎傧到y(tǒng)之外的振動，這一類振動需通過光學(xué)平臺的隔振支架衰減；而來自系統(tǒng)內(nèi)部的振動包括儀器振動、氣流、冷卻水流等，則需依靠光學(xué)平臺的桌面阻尼來隔絕。

隨著光學(xué)加工設(shè)備和測量儀器精度的不斷提高， 其對工作環(huán)境的振動隔離提出了更加嚴(yán)苛的要求。例如，離子激光器泵浦噴流染料激光器時(shí)，激光器的振動要求達(dá)到了微米級；由于可見光波長約為0.5微米，即使振動在次微米級別時(shí)，以光的干涉為基礎(chǔ)的實(shí)驗(yàn)（如全息攝影） 也將無法進(jìn)行； LμmArray 公司的并行激光直寫設(shè)備的直寫頭振動線位移不能超過15nm ;超精密機(jī)械加工的表面粗糙度要求已經(jīng)達(dá)到 0.1nm  ;高精度掃面探針顯微鏡的雙向分辨率都已達(dá)到亞納米級。因此，對光學(xué)加工設(shè)備及光學(xué)測量儀器進(jìn)行有效的隔振是保證科研生產(chǎn)活動正常進(jìn)行的必要條件。

臺面采用雙零級大理石，表面精度高，平面度高，穩(wěn)定性好

創(chuàng)譜大理石氣浮隔振平臺隔振基礎(chǔ)同樣采用精密囊式空氣彈簧隔離、減振液和高阻尼小孔，隔振性能良好

輕松調(diào)節(jié)，穩(wěn)定可靠結(jié)構(gòu)十分緊湊

自動水平，自動充氣，全部氣動執(zhí)行元件，采用原裝德國FESTO產(chǎn)品

靜音空氣機(jī)氣源，噪聲低（小于65分貝）

技術(shù)參數(shù)

水平方式：自動充氣，自動平衡

表面粗糙度：＜0.08μm

固有頻率：垂直1.2Hz-1.8Hz，水平1.2Hz-1.8Hz

振幅：≤1.2μm

重復(fù)定位精度：±0.05mm

應(yīng)用

精密測量儀器 、醫(yī)療設(shè)備 、包裝機(jī)械、精密電子元器件裝配 、光譜測量與校準(zhǔn) 、激光干涉 、光電儀器研發(fā)與測試 、精密機(jī)械制造