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E-MASK RP 系列適用于保護抗靜電性光學級保護膜的表面，生產于1000 級清潔環(huán)境下，并以一種聚合物薄膜作為基材。

特征：

高透明性使檢查被粘合體的外觀變得輕而易舉，根本無需剝離膠帶。

具有適宜于光學薄膜的良好潤濕性和卓越的可重復使用特性。

易剝離。 適合較大尺寸的光學薄膜 (RP207)。

襯背高度防塵，并易于除塵 (RP207)。

襯背可蓋印戳或使用噴墨打印機打印 (RP207/RP301)。