HZJ-402
一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介 ：
是我公司生產(chǎn)的新一代半導(dǎo)體單晶片外延工藝或擴(kuò)散工藝前專用清洗劑。它利用化學(xué)剝離的原理有效將鍵入在硅片表面的顆粒、有機(jī)物、金屬離子等污染物去除。清洗劑中的活性物質(zhì)可以吸附在硅片表面，使其長(zhǎng)期處于易清洗的物理吸附狀態(tài)（>120小時(shí)），而不像難清洗的化學(xué)吸附狀態(tài)轉(zhuǎn)化，并在表面形成保護(hù)層，防止顆粒的二次吸附，實(shí)現(xiàn)了把有害吸附轉(zhuǎn)化為無(wú)害吸附。能有效提高外延或擴(kuò)散工序的成品率。
二、主要特點(diǎn)：
中含有具有13個(gè)螯合環(huán)的無(wú)金屬離子螯合劑，對(duì)幾十種金屬離子有很強(qiáng)的螯合作用，防止了堿、重金屬離子對(duì)硅片沾污而影響器件的電學(xué)特性，便于制備高純的半導(dǎo)體襯底鏡面。清洗劑濃縮度高，可稀釋20-50倍，而且該產(chǎn)品粘度低、高效、環(huán)保無(wú)磷、無(wú)毒、無(wú)腐蝕
三、主要用途：用于半導(dǎo)體硅器件、薄膜技術(shù)中的玻璃和金屬表面浸漬、噴淋、超聲波的清洗。
四、 技術(shù)指標(biāo)：
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序號(hào) |
項(xiàng) 目 |
指 標(biāo) |
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1 |
外 觀 |
無(wú)色至微黃色液體 |
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2 |
配 比 |
5% |
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3 |
PH |
大于11 |
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4 |
建議工作溫度 |
50-60℃ |
五. 注意事項(xiàng)：
5.1清洗后的工件在轉(zhuǎn)入下道工序前，應(yīng)充分水洗。
5.2工作使用時(shí)，應(yīng)每當(dāng)6小時(shí)檢測(cè)一次PH，并及時(shí)添加本劑，以保證工作液的效果。
5.3該液呈堿性，不可食用，操作員應(yīng)減少皮膚或眼睛接觸，若有接觸，立即用大量水沖洗十分鐘。
5.4本品庫(kù)存時(shí)，可能有輕微沉淀現(xiàn)象，不影響處理質(zhì)量，加入時(shí)攪拌均勻即可。
5.5、避免金屬、顆粒污染。避免強(qiáng)電解質(zhì)的接觸
六. 包裝、儲(chǔ)運(yùn)：
25kg或200kg塑料桶包裝，儲(chǔ)存于陰涼干燥處，運(yùn)輸時(shí)桶口向上，防止泄漏。運(yùn)輸與存放溫度為5℃～50℃。存放時(shí)應(yīng)避光，以避免變質(zhì)本劑保質(zhì)期為一年。按一般普通無(wú)危險(xiǎn)化學(xué)品運(yùn)輸。
