本設備主要用于半導體刻蝕，能夠兼容離子束刻蝕和反應離子刻蝕功能，使用氣態(tài)化學刻蝕劑與材料產(chǎn)生反應來進行刻蝕，并形成可從襯底上移除的揮發(fā)性副產(chǎn)品，通過真空系統(tǒng)排出，特別適合刻蝕熔融石英、硅、光刻膠、聚酷亞胺( PI) 薄膜、金屬等材料。
成都超邁直營等離子刻蝕機 顏色尺寸規(guī)格均可定制生產(chǎn)
- 發(fā)布時間：2024-04-10 10:58:10,加入時間:2024年04月09日(距今529天)
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