氫氧化鋁催化劑研磨分散機(jī),氫氧化鋁15000rpm高速納米研磨分散機(jī),納米氫氧化鋁催化劑載體石油催化用研磨分散機(jī)
氫氧化鋁廣泛應(yīng)用于石油煉制、化工、陶瓷、建材、軍工國防等域。氫氧化鋁經(jīng)焙燒制得的氧化鋁是石油煉制與化工域應(yīng)用為廣泛的催化劑載體之一,同時(shí)還是陶瓷、磨料等的制備原料。氫氧化鋁的生產(chǎn)工藝較多,如傳統(tǒng)的以鋁礬土為原料,經(jīng)過高溫焙燒、堿液浸出、酸中和、干燥等步驟制得。也可以采用NaAlO2-CO2沉淀制得(簡稱CO2法)、NaAlO2-Al2(SO4)3沉淀制得(簡稱Al2(SO4)3法)。這些方法所制備的氫氧化鋁在比表面積、孔容、孔徑、吸附能力等方面也能滿足石化等一些域的使用要求,如作為加氫催化劑載體。但是上述方法制得的氫氧化鋁一般純度較低,對于氫氧化鋁純度要求較高的一些域,如連續(xù)重整催化劑載體、特種陶瓷、精細(xì)化工等域,一般需要純度達(dá)到99.9%以上的高純氧化鋁。
生產(chǎn)方法:1、在硫酸鋁溶液中,在攪拌下添加堿溶液,生成沉淀經(jīng)洗滌、過濾、低溫干燥后,經(jīng)粉碎制得成品。也可將脫水后的糊狀物直接作為產(chǎn)品。制備中溶液的濃度、溫度、反應(yīng)溫度控制,干燥溫度等影響產(chǎn)品質(zhì)量。2、將硫酸和鋁粉或鋁灰作用生成硫酸鋁,再與碳酸氫銨進(jìn)行復(fù)分解反應(yīng),制得氫氧化鋁;蛘咭凿X酸鈉溶液與硫酸鋁溶液中和至pH6.5,生成氫氧化鋁沉淀,經(jīng)水洗、壓濾,于70~80℃下干燥,再經(jīng)研磨分散機(jī)(改進(jìn)型膠體磨),制得氫氧化鋁。
氫氧化鋁催化劑研磨分散機(jī)(改進(jìn)型膠體磨)CMD2000系列改進(jìn)型膠體磨研磨式分散機(jī)是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品,先錐形研磨頭具有精細(xì)度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。通過膠體磨定轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效的乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子,好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
氫氧化鋁催化劑研磨分散機(jī)(改進(jìn)型膠體磨)CMD2000設(shè)備選型表:
高速膠體磨 |
流量* |
輸出 |
線速度 |
功率 |
入口/出口連接 |
類型 |
l/h |
rpm |
m/s |
kW |
|
CMD 2000/4 |
700 |
14000 |
40 |
4 |
DN25/DN15 |
CMD 2000/5 |
5,000 |
10,500 |
40 |
11 |
DN40/DN32 |
CMD 2000/10 |
10,000 |
7,300 |
40 |
22 |
DN50/DN50 |
CMD 2000/20 |
30,000 |
4,900 |
40 |
45 |
DN80/DN65 |
CMD 2000/30 |
60,000 |
2,850 |
40 |
75 |
DN150/DN125 |
CMD 2000/50 |
100000 |
2,000 |
40 |
160 |
DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%。 |
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和終產(chǎn)品的要求。