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鋰電池漿料高剪切研磨分散設(shè)備

  • 發(fā)布時間:2025-07-31 00:00:00,加入時間:2013年03月04日(距今4584天)
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石墨硅基復(fù)合負(fù)極材料研磨分散設(shè)備,,鋰電負(fù)極材料研磨分散設(shè)備,德國進(jìn)口高剪切研磨分散機,超高速研磨分散機,管線式研磨分散機,連續(xù)式研磨分散機

IKN研磨分散機采用德國博格曼雙端面機械密封,在保證冷卻水的前提下,可24小時連續(xù)運行。而普通分散機很難做到連續(xù)長時間的運行,并且普通分散機不能承受高轉(zhuǎn)速的運行

硅材料因具有較高的儲理容量(理論比容量4200mAh/g)和豐富的資源,被認(rèn)為是 開發(fā)新一代高比能量及高功率密度的鋰離子電池負(fù)極材料的理想候選材料之一。然而,硅 負(fù)極由于其在鋰的嵌、脫循環(huán)過程中要經(jīng)歷嚴(yán)重的體積膨脹和收縮,造成材料結(jié)構(gòu)的破壞 和粉碎化,從而導(dǎo)致電極循環(huán)性能的衰退,限制了其商業(yè)化應(yīng)用。因此,抑制硅材料的體積 膨脹,提高材料的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定對于提高硅材料的電導(dǎo)率與循環(huán)穩(wěn)定性意義重大。目前主要通 過硅的納米化、硅與金屬的合金化、硅與碳材料的復(fù)合來改善硅材料的體積膨脹。

石墨硅基復(fù)合負(fù)極材料及其制備方法,采用高殘?zhí)季酆衔锊牧献鳛楣杌潭ɑ妮d體,利用有機高分子微球在高溫碳化后的均勻疏松特性,可控設(shè)計納米硅與高分子微球均勻鑲嵌的有機無機 組合體,碳化后形成納米硅與微納多孔碳網(wǎng)相容的復(fù)合材料,該方法可改善納米硅顆粒在 硅基復(fù)合負(fù)極材料中的分散性,緩解材料脫嵌鋰時的體積膨脹和收縮,增強了材料的結(jié)構(gòu) 穩(wěn)定性,保證材料具有較高的導(dǎo)電率,提高材料的電化學(xué)性能及其循環(huán)穩(wěn)定性能。

上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

從設(shè)備角度來分析,影響分散效果因素有以下幾點:

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

線速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,研磨分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

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