均采用進(jìn)口高品級(jí)大顆粒金剛石晶體為原料，采用先進(jìn)的粉體制備技術(shù)分選出粒度分布極窄的金剛石微粉（納米和微米級(jí)），嚴(yán)格受控的納米和微米級(jí)的單晶金剛石晶形控制系統(tǒng)，讓每一顆粒子的近似圓值都近乎完美，成功參與研磨與拋光過程，得到更高質(zhì)量再現(xiàn)性。金剛石均勻分布在膏狀載體中，具有自潤滑功能，適用于手動(dòng)精拋光，合適硬度低的樣品�？梢詫�(duì)表面不規(guī)則（凹槽等）的金相試樣材料進(jìn)行快速拋光，使用方便。

W40（320目）粗磨拋光      W28（400目）普通拋光W20（600目）普通拋光     

W14（800目）普通拋光W10（1000目）普通拋光    W7（1500目） 精細(xì)拋光

W5（2000目） 精細(xì)拋光    W目）精細(xì)拋光W目）精細(xì)拋光   

W目）鏡面拋光W1（8000目）鏡面拋光      W目）鏡面拋光其中W0.5最細(xì)，W40最粗，

由粗到細(xì)分別可用于研磨，精磨，拋光，精拋，最后可出鏡面效果。